uv光氧氧化技术。光氧氧化是指在一定波长光照条件下,半导体材料发生光生载流子的分离,然后光生电子和空穴在与离子或分子结合生成具有氧化性或还原性的活性自由基,废气处理设备,这种活性自由基能将有机物大分子降解为---或其他小分子有机物以及水,在反应过程中这种半导体材料也就是光解剂本身不发生变化。本产品利用uv紫外线技术(波段184。9nm-253。7nm),产生臭氧,游离活性氧离子。通过高能紫外线光破坏降解分子键及协同分解氧化反应去除有机污染物。
不同生产工艺的企业产生的废气成分也是不相同的,例如包装印刷或者机械设备厂,产生的就是截然不同的废气,对于不同的行业,不同的加工处理工艺,所采用的废气处理设备也是不相同的,针对工厂排放不同的废气。废气预处理的好坏将直接影响到末端治理的效果。多级干式过滤技术、喷淋吸收技术、冷凝降温除湿技术等废气预处理技术不断发展,其它如除漆雾、除焦油等净化技术成为企业发展的技术之一。有机废气分子需要有特定波长的光的特征吸收光谱才能产生光化学反应。此外,物质是辐照的时间越长,越光解的影响,所以使用紫外线灯消毒柜,消除---有---的效果。
当化学物质通过吸收能量(如热能、光子能量等),可以使自身的化学性---得活跃甚至被裂解。当吸收的能量大于化学键键能,即可使得化学键断裂,形成游离的带有能量的原子或基团。当波段内的真空紫外线(波长范围内184。9nm-253。7nm),促使有机废气物质通过吸收该波段的光子,而该波段的光子能量大于绝大多数的化学键键能,使得有机物质得以裂解;再通过裂解产生的臭氧将其氧化成简单、无害、稳定的物质,如h2o和co2等。
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