uv光氧氧化技术。光氧氧化是指在一定波长光照条件下,半导体材料发生光生载流子的分离,vocs废气处理设备,然后光生电子和空穴在与离子或分子结合生成具有氧化性或还原性的活性自由基,这种活性自由基能将有机物大分子降解为---或其他小分子有机物以及水,在反应过程中这种半导体材料也就是光解剂本身不发生变化。本产品利用uv紫外线技术(波段184。9nm-253。7nm),产生臭氧,游离活性氧离子。通过高能紫外线光破坏降解分子键及协同分解氧化反应去除有机污染物。
哪些地方适用于废气处理设备呢?像涂装厂、食品厂、橡胶厂、化工厂、电子厂、印刷厂、喷漆车间、塑料厂、镀锌车间、涂料厂、石化行业等产生粉尘,异味,的场所,都会产生工业废气,都需要进行废气、粉尘或者的处理。废气处理装置蓄热与燃烧设备:分为二室、三室或多室蓄热与燃烧设备。通常采用耐高温的陶瓷材料作为蓄热体。uv光氧催化设备:当光的能量足够---有机废气分子中的化学键时,只有激发能大于化学键能,这两个条件才能满足,化学键分解反应就会发生。
活性炭脱附阶段,当吸附床吸附饱和后,切换脱附风阀和吸附风阀,启动脱附风机对该吸附床脱附。脱附新鲜空气首先经过新风入口的换热器和电加热室进行加热,将新空气加热到120℃左右进入活性炭床,炭床受热后,活性炭吸附的溶剂挥发出来。活性炭吸附阶段。经过前面的预处理后,废气通入后端的活性炭吸附/脱附塔进行吸附处理,通过活性炭微孔的有机气体吸附在活性炭表面,去除废气中的有机物,达到净化气体的作用。
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